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美国 OAI 光刻机 Model 200 型紫外光刻机 参考价 ¥面议
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品牌 型号 类型 光学加工机械 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-17 浏览次数 5 美国OAI光刻机Model 200型桌面掩模对准器系统手工操作对比
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OAI Model 6000 型紫外光刻机 参考价 ¥面议
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品牌 型号 类型 光学加工机械 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-17 浏览次数 9 OAI掩膜光刻机Model6000型的特点和优点•高吞吐量(180wph,掩模模式)和生产和研发的运行成本•ABO光学与光均质器,以实现所需各种电阻的分辨率和曝光•用于大深度Foucs的特殊光学•灵活处理基板从2“平方到12”平方•可手动或自动上料配置对比
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OAI UV Led 光源 参考价 ¥面议
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品牌 型号 类型 光学加工机械 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-17 浏览次数 3 OAI UV Led光源-对准和均匀,适用于高要求的光刻应用对比
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Model 6020S OAI 紫外光刻机 参考价 ¥面议
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品牌 型号 类型 光学加工机械 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-17 浏览次数 3 OAI的面板级掩模光刻机Model6020S用于FOPLP型号6020S-半自动化或自动化,实现500mmx500mm晶圆尺寸的FO-PLP加工.OAI’sPanelLevelMaskAlignerforFOPLPModel6020S-SemiorAutomatedEnablingFO-PLPProcessingat500mmx500mmWaferSizesOAI掩模对准器对比
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海德堡μMLA桌面无掩模光刻机 参考价 ¥面议
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品牌 型号 类型 光学加工机械 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-17 浏览次数 6 海德堡μMLA桌面无掩模光刻机 桌面型光刻机μMLA 技术参数 直写模式 I*直写模式 II*写入性能(光栅扫描和矢量曝光模式) 小结构尺寸 [μm]0对比
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OAI Model 800E 型紫外光刻机 参考价 ¥面议
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品牌 型号 类型 光学加工机械 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-17 浏览次数 6 OAIModel800E型掩模对准系统对比
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德国海德堡 Heidelberg 激光直写光刻机 MLA150 参考价 ¥面议
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品牌 型号 类型 光学加工机械 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-17 浏览次数 7 德国海德堡 Heidelberg 激光直写光刻机 MLA150 德国高精密激光直写绘图机非接触式曝光可支持数位光刻与灰度光刻 MLA150专为便于操作而设计,涵盖过去30年中开发的激光直写设备的所有技术知识对比
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德国海德堡 激光直写光刻机DWL 66+ 参考价 ¥面议
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品牌 型号 类型 光学加工机械 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-17 浏览次数 6 德国海德堡激光直写光刻机DWL66+科研用激光直写系统具有多种直写模块,实现不同精度直写需求能于结构上进行灰度曝光 DWL66+激光光刻系统是具经济效益的高分辨率图像产生器,适用于小批量掩模板制作和直写需求对比
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德国Nanoscrib 双光子微纳3D打印机Quantum X 参考价 ¥面议
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品牌 型号 Quantum X 类型 光学加工机械 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-17 浏览次数 6 德国Nanoscrib双光子微纳3D打印机QuantumX重新定义精密加工对比
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德国海德堡Heidelberg 激光直写光刻机MLA100 参考价 ¥面议
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品牌 型号 MLA100 类型 光学加工机械 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-17 浏览次数 7 德国海德堡Heidelberg激光直写光刻机MLA100适合用科研领域的中小型实验室与大学研究所,支持套刻直写功能MLA100聚焦于合理价格下依然维持高性能,是许多研发应用的理想光刻解决方案对比
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URE-2000 系列紫外单面光刻机 参考价 ¥面议
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品牌 型号 URE-2000 类型 光学加工机械 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-17 浏览次数 3 URE-2000系列紫外单面光刻机此系列包含六种型号:URE-2000A,URE-2000B,URE-2000/35,URE-2000/35A,URE-2000/25,URE-2000/17URE-2000/600紫外光刻机1、设备主要技术指标:(1)光束口径:650mm×650mm(2)有效曝光面积:600mm×600mm(3)分辨力:≤3μm(4)对准精度:±1对比
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德国Heidelberg激光直写光刻机μPG 101,UMLA 参考价 ¥面议
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品牌 型号 μPG 101,UMLA 类型 光学加工机械 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-17 浏览次数 3 德国海德堡Heidelberg激光直写光刻机μPG101,升级新型号:UMLA适合用于科研领域台式激光直写机操作简单,可支持灰度光刻μPG101是一款经济实惠且易于操作的图形发生器,适用于直写和少批量的掩模板制作对比
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URE-2000S 系列双面光刻机 参考价 ¥面议
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品牌 型号 URE-2000S 类型 光学加工机械 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-16 浏览次数 5 一、URE-2000S/A8型双面光刻机1.主要技术参数曝光面积:8英寸曝光波长:365nm:15mW/cm405nm:15-30mW/cm2分辨力:1mm对准精度:±2mm(双面,片厚0.8mm)±0.8mm(单面)掩模尺寸:4英寸、5英寸对比
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德国Nano analytik 电子束光刻机 针尖光刻机 参考价 ¥面议
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品牌 型号 ParcanNano扫描探针光刻刻系统/单针尖光系统 类型 光学加工机械 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-16 浏览次数 3 ParcanNano电子束光刻机 针尖光刻机SPL(德国Nanoanalytik)简介:公司以的针尖技术为核心竞争力,技术源自于德国伊尔默瑙工业大学,致力于主动式针尖技术在微纳米结构制备和表征方面的研发,及其相关设备的产业化对比
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Heidelberg μMLA桌面无掩模光刻机 参考价 ¥面议
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品牌 型号 类型 光学加工机械 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-16 浏览次数 13 μMLA桌面无掩模光刻机 桌面型光刻机μMLA 技术参数 直写模式 I*直写模式 II*写入性能(光栅扫描和矢量曝光模式) 小结构尺寸 [μm]0对比
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德国MBE-Komponenten 分子束外延系统 OCTOPLUS 500 参考价 ¥面议
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品牌 型号 类型 光学加工机械 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-16 浏览次数 6 德国MBE-Komponenten分子束外延系统OCTOPLUS500 OCTOPLUS500系统是为了在6英寸衬底上生长高质量的III/V族或者II-VI族异质结构材料而研发的对比
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NIE-4000 离子束刻蚀机,NIR-4000 IBE/RIE 双刻蚀系统 参考价 ¥面议
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品牌 型号 类型 光学加工机械 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-16 浏览次数 4 NIE-4000离子束刻蚀系统 NIR-4000IBE/RIE双刻蚀系统通过加速的Ar离子进行物理刻蚀或铣削对比
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美Sonix AutoWafer Pro 晶圆检测设备 参考价 ¥面议
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品牌 型号 类型 光学加工机械 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-16 浏览次数 4 美Sonix AutoWafer Pro 晶圆检测设备 AutoWafer Pro是专为全自动晶圆检测设计的机型,主要应用在Bondwafer、MEMS内部空间、离层检测,TSV量测方面对比
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lcd和dlp3d打印机-3D打印全套供应商-formlabs 参考价 ¥42
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品牌 型号 form3 类型 光学加工机械 厂商性质 其他 更新时间 2022-12-18 浏览次数 2 Form3将强大的立体光固化(SLA)技术搬到了桌面,仅需工业级3D打印机成本的一小部分,就可实现准确的高精度打印对比
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三D打印机-易成三维现货供应-formlabs 参考价 ¥47
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品牌 型号 form3 类型 光学加工机械 厂商性质 其他 更新时间 2022-12-18 浏览次数 10 Form3L拥有令人难以置信的零件质量,可提供立体光刻3D打印闻名的光滑表面光洁度和精细细节对比
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密封圈外观检测设备 在线视觉检测设备 ccd尺寸测量设备 参考价 ¥5000
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品牌 型号 TM300 类型 光学加工机械 厂商性质 其他 更新时间 2022-12-17 浏览次数 2 1对比