您好,欢迎来到亚洲制造网!请 |免费注册

产品展厅本站服务收藏该商铺

深圳市蓝星宇电子科技有限公司

免费会员
手机逛
深圳市蓝星宇电子科技有限公司

Product Display

产品展示

当前位置:深圳市蓝星宇电子科技有限公司>>行业专用设备>>光学加工机械>> Heidelberg μMLA桌面无掩模光刻机

Heidelberg μMLA桌面无掩模光刻机

产品二维码
参  考  价:面议
具体成交价以合同协议为准
  • 产品型号:
  • 品牌:
  • 产品类别:光学加工机械
  • 所在地:
  • 信息完整度:
  • 样本:
  • 更新时间:2023-07-16 19:48:29
  • 浏览次数:14
收藏
举报

联系我时,请告知来自 亚洲制造网

深圳市蓝星宇电子科技有限公司

其他

  • 经营模式:其他
  • 商铺产品:721条
  • 所在地区:
  • 注册时间:2023-07-16
  • 最近登录:2023-07-16
  • 联系人:廖总
产品简介

μMLA桌面无掩模光刻机 桌面型光刻机μMLA 技术参数 直写模式 I*直写模式 II*写入性能(光栅扫描和矢量曝光模式) 小结构尺寸 [μm]0

详情介绍

μMLA桌面无掩模光刻机

桌面型光刻机μMLA 技术参数

直写模式 I*直写模式 II*
写入性能(光栅扫描和矢量曝光模式)
小结构尺寸 [μm]0.61
小线宽/线隙 [半宽, μm]0.81.5

层对准

大于 5 x 5 mm2 [3σ, nm]

500500

层对准

大于 50 x 50 mm2 [3σ, nm]

10001000
直写性能 光栅扫描曝光模
线宽变代 [3σ, nm]200300
直写速率 [mm2/min]1030

可选“可变分辨率光栅扫描曝光模块"的写入速度(UMVAR),

适用于不同 小结构尺寸。

10 mm²/min

at 0.6 µm

30 mm²/min

at 1 µm

20 mm²/min

at 1 µm

60 mm²/min

at 2 µm

25 mm²/min

at 2 µm

100 mm²/min

at 4 µm

矢量曝光模式直写写性能
矢量模式下的地址网格 [nm]2020
边缘粗糙度 [3σ, nm]3050
线宽变化 [3σ, nm]7080
线性直写速率200 mm/s200 mm/s
系统参数
衬底尺寸5″ x 5″5″ x 5″
小衬底尺寸

5 mm x 5 mm

5 mm x 5 mm

基板厚度0.1 to 12 mm0.1 to 12 mm
光栅扫描模块矢量曝光模块
光源LED; 390 nm or 365 nmLaser; 405 nm and/or 375 nm

系统尺寸(光刻单元)

µMLAWidthDepthHeightWeight
主机630 mm (25″)800 mm (31.5″)530mm (21″)100 kg (220 lbs)
可选配防振表1400mm (55″)700 mm (28″)750 mm (30″)350 kg (770 lbs)

无掩模光刻机于2015年推出。从那时起, 进的无掩膜技术已经确立。μMLA提供了新一代的桌面激光光刻工具: 配置设置 到您的需要与光栅扫描和矢量扫描模式(或两者)和可变分辨率的记录磁头。

在许多应用中,传统的光掩膜已经成为过去,因为你的设计文件是通过二维空间光直接暴露在电阻涂层晶圆上的调制器(SLM)。µMLA是MLA100的直接继承者,是“小"MLA150,是我们*的无掩模对准器的兄弟,它是许多多用户设备、纳米制造实验室和国家研究所中值得信赖、的主力。

在我们全新的入门级系统µMLA的开发过程中,我们引入了诸如可变解决方案等新特性,并创建了一个灵活且高度可定制的桌面系统。当然,小样本处理很简单。µMLA功能所有 的在我们以前的桌面系统,同时提供更多的选择和更高的性能比以往任何时候。

应用包括研究和发展的领域,如MEMS,微流体,微光学和所有其他领域,负担得起,紧凑,和强大的模式基因/rator微结构是必需的。

APPLICATIONS 应用程序

微光学:二元衍射光学元件。设计由1个µm²正方形组成。

μMLA提供了一个标准的灰度模式,这可以制造低创造的微镜头。防蚀胶:15 μm厚AZ4562。节距30 μm,曲率半径16 μm。

CUSTOMIZE YOUR μMLA 定制您的μMLA

两种曝光模式

μMLA可以让你选择光栅扫描曝光模式和矢量模式,或者甚至在同一个系统上运行曝光模式! 光栅扫描曝光模式快速,并提供 的图像质量和保真度,而写入时间独立于结构尺寸或图案密度。矢量扫描模式可以帮助暴露由曲线组成的设计,当需要平滑的轮廓。虽然矢量模式产生的图像质量与光栅扫描曝光模式相似,但它不能达到同样的写入速度,特别是对于高填充系数的模式。

A Choice of Wavelengths 波长的选择

因此,你可以在一个系统上使用多达三个不同波长(LED和/或激光二极管)。

上一篇: 德国MBE-Komponenten 分子束外延系统​
下一篇: ECHO-VS 超声波扫描显微镜
我要评论
文明上网,理性发言。(您还可以输入200个字符)

所有评论仅代表网友意见,与本站立场无关。

请选择省份

  • 安徽
  • 北京
  • 福建
  • 甘肃
  • 广东
  • 广西
  • 贵州
  • 海南
  • 河北
  • 河南
  • 黑龙江
  • 湖北
  • 湖南
  • 吉林
  • 江苏
  • 江西
  • 辽宁
  • 内蒙古
  • 宁夏
  • 青海
  • 山东
  • 山西
  • 陕西
  • 上海
  • 四川
  • 天津
  • 新疆
  • 西藏
  • 云南
  • 浙江
  • 重庆
  • 香港
  • 澳门
  • 台湾
  • 国外
=
同类优质产品

在线询价

X

已经是会员?点击这里 [登录] 直接获取联系方式

会员登录

X

请输入账号

请输入密码

=

请输验证码

收藏该商铺

X
该信息已收藏!
标签:
保存成功

(空格分隔,最多3个,单个标签最多10个字符)

常用:

提示

X
您的留言已提交成功!我们将在第一时间回复您~