Dateblat LabSpin手动涂胶/显影系统。
实验室涂胶显影方案, 大尺寸6"到8"
该系统根据实验室和研发用途定制开发,针对不同类型的光刻化学试剂设计,通过*的腔体设计,提供均匀、和重复性高的涂胶结果.
LabSpin系统提供两种型号的设备,分别是桌上型(table-top,TT)和集成型(集成在湿化学槽中,Bench Module,BM),都可以完成 大尺寸为150mm或200mm的衬底涂覆功能。LabSpin涂胶机可以应用于非常广泛的衬底材料,从碎片到150/200mm圆片或100x100mm/150x150mm方片。非常小的设备尺寸只需要很小的占地空间。
LabSpin设计了大量的选配件,适用于不同应用的需求。该涂胶系统可以装配针筒或自动滴胶臂、边缘涂覆、去厚胶边、积水式显影等等多种配置。
选项:
全自动
- ACS300 Gen3
- ACS300 Gen2
- ACS200 Gen3
半自动及手动
- LabSpin6 / LabSpin8
- RCD8
亮点:
。工艺多样化,包括涂胶和积水或显影,
。可进行去除厚胶边,
。滴胶位置可调节,允许中心滴胶和边缘涂胶。在旋涂法中旋转衬底被均匀地涂以溶液。 溶液,如光致抗蚀剂,通常分注在晶圆中心。 .然后加速度、 终转速和各步骤的持续时间使得涂料的一部分经离心分离形成厚度均匀的膜。 除了工艺参数外,溶液或光致抗蚀剂的物理性质决定了膜的厚度。
SUSS MicroTec 的 GYRSET 技术具有显著的优势。 GYRSET的原理是,工作室在涂胶过程中同步旋转,从而有效降低了旋转衬底上方的空气湍流。 在封闭的腔室中空气比通常用溶剂时更快速地饱和,使涂层缓慢干燥,从而更均匀地分布在衬底上。 这大大减少了材料的用量。
旋涂法不适用于有凹凸图形的结构。
我们的客户可以从中得到以下好处
- 旋涂法是一种简单而应用广泛的方法
- 通过 GYRSET 涂胶技术减少材料消耗并降低成本
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