mr-NIL210纳米压印光刻胶具有出色的固化和纳米压印性能，特别适用于使用软印模材料（例如PDMS）的软NIL，可替代mr-UVCur06纳米压印光刻胶（已停产）。

mr-NIL210纳米压印光刻胶 特征：
• 在空气中（存在氧气）也具有出色的固化性能；
• 对各种基材（如硅，石英或铝）具有良好的干法刻蚀稳定性；
• 纯有机抗蚀剂，固化后可通过氧等离子体去除残留物；

Processing Details：

Processing Scheme：

Film thickness and spin curves：

应用领域：
• 蚀刻掩模，用于图案转印工艺（干法和湿法蚀刻）
• 纳米结构的制造
• LED，光子晶体
• 图案蓝宝石衬底（PSS）
• 微电子学
• 有机电子产品（OLED，OPV，OTFT）