微流控芯片曝光系统 UV-KUB 2 是一种基于UV LED的曝光机系统，该曝光系统结构紧凑，可以直接放置在实验台上，能够处理可达直径4英寸的晶圆，兼容硬接触（接触式）或者软接触（接近式）工艺，可自动调整掩膜高度以适应不同的基板厚度，采用365 nm光源，不需要预热，也不需要单独的冷却单元。另外，该系统采用了创新设计，保证了光源的准直性和均匀性，其最小分辨率可达2μm，发散角小于2°。本系统适用于市面上常用的光刻胶，如AZ系列、Shipley系列、SU-8系列和K-CL系列。

微流控芯片曝光系统 UV-KUB 2 技术参数：

• 分辨率 ：2µm

• 波长 ：365nm +/- 5nm

• 功率密度：35mW/cm² +/- 10%

• 曝光过程中的基材温升：<1°C

• 曝光周期： 1秒~1小时

• 可编程循环数  ： 10

• 彩色触摸屏 ：5.7英寸

• 功率 ： 180W

• 尺寸：260 x 260 x 260mm

• 电源：100V / 240V-50Hz / 60Hz

• 重量： 8.2kg

应用领域：