CMP是IC芯片制造中的一种硅片表面平坦化工艺。通过研磨垫和研磨剂的化学、机械共同作用,消除硅片表面的微观凹凸,达到平坦化,cmp装置 ic平坦装置。
| CMP是IC芯片制造中的一种硅片表面平坦化工艺。通过研磨垫和研磨剂的化学、机械共同作用,消除硅片表面的微观凹凸,达到平坦化。 |
| ChaMP: 300mm机型 |
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| ChaMP:200mm/150mm机型 |
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