mr-NIL210 有机可光固化的NIL抗蚀剂，具有出色的干法刻蚀特性。它具有出色的固化和纳米压印性能，特别适用于使用软印模材料（例如PDMS）的软NIL。

特征：
1）在空气中（存在氧气）也具有出色的固化性能
2）对各种基材（如硅，石英或铝）具有出色的干法刻蚀稳定性
3）纯有机抗蚀剂，固化后可通过氧等离子体去除残留物

应用领域
1）蚀刻掩模，用于图案转印工艺（干法和湿法蚀刻）
2）纳米结构的制造
3）LED，光子晶体
4）图案蓝宝石衬底（PSS）
5）微电子学
6）有机电子产品（OLED，OPV，OTFT）

处理步骤
旋涂 3000 rpm 持续30 s
预烤 60°C持续180 s
烙印温度 室内温度
压印压力 > 100毫巴
辐射强度 mr-NIL210-100nm：100 mW cm -2
mr-NIL210-200nm：50 mW cm -2
mr-NIL210-500nm：50 mW cm -2

可根据要求提供定制的膜厚，2 µm

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