自动式等离子处理系统大气等离子清洗机应用于FPC&PCB表面处理，复合型材料，玻璃，ITO等行业领域的表面处理；
超低温处理过程，处理温度可≤35°C以下；
设计的内置式冷却系统，提高和保证设备的使用寿命和性能；
等离子设备可以使用On-Line安装方式，电子和离子的能量可达10eV以上，材料批处理的效率可高于低气压辉光放电装置效率10倍以上。

在清理过程中，由工作中气体在磁场的作用下所激起的等离子体与物件表层产生物理学和化学变化。物理反应原理是活性颗粒轰击待清理表层，使污染物摆脱表层，污染物被排出；化学变化原理是各种各样活性颗粒与污染物反应形成挥发物化学物质抽出，进而做到清理目的。一般用以氢、氮、氧、氩等工作气体。

运用大气等离子清洗机，能够便捷地解决金属材料、半导体材料、氧化物及其绝大多数的高聚物，比如聚丙稀、聚酯、聚酰亚胺膜、聚氯乙烷、环氧树脂，乃至聚四氟乙烯进行处理。这使我们非常容易想到去除零件上的油渍，去除腕表上的，去除pcb线路板上的胶渣等，很多行业粘接附着力的提高大多数可以用大气等离子清洗机来处理。

“清洗表层”是大气等离子清洗机技术的关键，简易地说清洗表层便是在待处理材料的表层打出成千上万人眼看不到的小孔，同时在表层产生一层新的氧化膜，这样就可以增大了材料的表面积，间接提升了材料表层的黏附性、相溶性、浸润性、扩散性等。并且这种特性非常好的运用于手机、电视、微电子技术、半导体材料、汽车等领域，为很多公司解决了很多年未处理的难点。

• CRF -APS- 500W

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超低温处理过程，处理温度可≤35°C以下；
设计的内置式冷却系统，提高和保证设备的使用寿命和性能；
等离子设备可以使用On-Line安装方式，电子和离子的能量可达10eV以上，材料批处理的效率可高于低气压辉光放电装置效率10倍以上。

在清理过程中，由工作中气体在磁场的作用下所激起的等离子体与物件表层产生物理学和化学变化。物理反应原理是活性颗粒轰击待清理表层，使污染物摆脱表层，污染物被排出；化学变化原理是各种各样活性颗粒与污染物反应形成挥发物化学物质抽出，进而做到清理目的。一般用以氢、氮、氧、氩等工作气体。

运用大气等离子清洗机，能够便捷地解决金属材料、半导体材料、氧化物及其绝大多数的高聚物，比如聚丙稀、聚酯、聚酰亚胺膜、聚氯乙烷、环氧树脂，乃至聚四氟乙烯进行处理。这使我们非常容易想到去除零件上的油渍，去除腕表上的，去除pcb线路板上的胶渣等，很多行业粘接附着力的提高大多数可以用大气等离子清洗机来处理。

“清洗表层”是大气等离子清洗机技术的关键，简易地说清洗表层便是在待处理材料的表层打出成千上万人眼看不到的小孔，同时在表层产生一层新的氧化膜，这样就可以增大了材料的表面积，间接提升了材料表层的黏附性、相溶性、浸润性、扩散性等。并且这种特性非常好的运用于手机、电视、微电子技术、半导体材料、汽车等领域，为很多公司解决了很多年未处理的难点。

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