产品简介
美国TrionTechnology反应式离子刻蚀(RIE/ICP)系统及沉积(PECVD)系统Trion始于一九八九年的等离子刻蚀与沉积系统制造商，Trion为化合物半导体、MEMS(微机电系统)、光电器件以及其他半导体市场提供多种设备
详情介绍
美国Trion Technology
反应式离子刻蚀(RIE/ICP)系统及沉积(PECVD)系统 |
Trion始于一九八九年的等离子刻蚀与沉积系统制造商，Trion为化合物半导体、MEMS(微机电系统)、光电器件以及其他半导体市场提供多种设备。我们的产品在业内以系统占地面积 小、成本低而著称，且设备及工艺的可靠性和稳定性久经考验。从整套的批量生产用设备，到简单的实验室研发用系统，尽在Trion。 批量生产用设备:
Oracle III反应离子刻蚀与沉积系统 Oracle III由真空传输系统(CVT)、真空盒升降机和 多四个工艺反应室构成。这些工艺反应室与负载锁对接，既能够以生产模式运行，也能够作为单个系统独立作业。 Oracle III是市场上 灵活的系统，既可以为实验室环境进行配置(使用单基片装卸)，也可以为批量生产进行配置(使用真空盒升降机进行基片传送)。
由于Oracle III 多可容纳四个独立的工艺室，其可以有多种不同的工艺组合，其中包括RIE/ICP (反应离子刻蚀机/电感耦合等离子)刻蚀和PECVD 沉积。多个室可以同时工作。鉴于所有工艺室均有真空负载锁，工艺运行安全且没有大气污染。 
|
- 上一篇： 德国 LaVision BioTec---双光子显微镜T
- 下一篇： ST-1500i投影光刻机
所有评论仅代表网友意见，与本站立场无关。