深圳市蓝星宇电子科技有限公司
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产品名字：电子束光刻胶详细介绍：光刻胶型号厚度范围/um分辨率适用工艺电子束光刻胶SU-8 10100.1-0.20.5um负性环氧类化学放大光刻胶（可用于做立体结构）HSQXR-1541-00685nm~180nm6nm分辨率负胶，抗刻蚀正性超高分辨率电子束光刻胶,抗刻蚀PMMA很多不同分子量，对应不同分辨率、纵宽比
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类型 | 型号 | 特性 |
正胶 | SX AR-P6200 NEW! | 超高分辨率电子束正胶，通过简单的工艺即可得到10nm甚至更小的结构。超高深宽比（20:1）、超高对比度 gt;15）。良好的耐干法刻蚀性能，是传统PMMA胶的2倍。 可以取代ZEP胶，经济实惠，并且采购简单，包装规格多样化。 |
AR-P617PMMA/MA共聚物 | 适合目前各种应用需要的电子束光刻胶。灵敏度高，是普通PMMA胶的3~ 4倍，对比度亦高于PMMA。PMMA/MA共聚物也可以和PMMA通过双层工艺实现lift-off工艺。 | |
PMMA |
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