可在基本的水显影剂中显影的负性光刻胶
特性
厚度范围 lt; µm
对波长小于380nm的灵敏度
优于表面拓扑的线宽控制
直侧壁适合任何膜厚
能够在单次旋涂中涂覆100 µm厚的膜
由于应用了150°C的软烘烤,烘烤时间更短(对于厚膜至关重要)
出色的光速,可提高曝光量
有助于提高RIE中的功率密度,从而提高蚀刻速率和蚀刻产量
消除使用粘合促进剂
RIE /离子耐高温 厚度 湿法蚀刻 厚度
增强附着力
NR7-250P NR9-250P
NR7-1000P NR9-1000P
NR7-1500P NR9-1500P
NR7-3000P NR9-3000P
NR7-6000P NR9-6000P
NR5-8000 NR9-8000P μm-100um
耐温性= 150°C 在低于120°C的处理温 耐温性= 100°C。
度下可在25°C剥离NR5和NR7系列抗蚀剂 NR9系列抗蚀剂具有增强的附着力
在25°C时易于剥离。
Futurrex NR5-8000,:1 AR
抗蚀剂分辨率的示例
膜厚度:54µm
掩模尺寸:12µm线/间隔
曝光剂量:1100 mJ / cm 2。
焦点偏移:-15µm。
曝光工具:Ultratech步进土星
模型,i-line
另有:NR9G g和h线曝光用粘度增强 具有高粘附性适用于电镀及湿法蚀刻
NR71G g和h线曝光用于干法蚀刻中掩模应用并能作为隔层
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