概括
椭圆偏光法是一种在光束与探测样本反应后利用偏振态变化的技术。典型的椭圆偏振仪设置包括光源,偏振光学器件(如偏振器,分析器,相位延迟器或称为补偿器),样品台,检测单元,入射角变化装置,用于数据采集和建模的计算机和软件。与反射计不同,椭圆计参数(Psi和Del)总是在非法向入射角处获得。通过改变入射角,可获得更多的数据集,这将有助于改进模型,减少不确定性,提高模型输出能力。因此,可变角度椭偏仪比固定角度椭圆偏振仪强大得多。此外,通过利用宽带光源,可获得许多波长点的波长范围内的光谱数据,因此可以极大地提高光学性能的测量精度。通过实施*的探测器阵列已经克服了光谱数据的测量速度,可同时采集数千个数据。利用这种配置能够收集更多数据集,可利用软件内置的强大功能来分析复杂的层堆栈。
有两种方法可以手动或自动更改入射角度。这两种角度调整模型,通过按照精确预设的插槽(手动测角仪,SExxxBM)以5度间隔移动,手动调整角度,以及具有度分辨率(SExxxBA)的电动精密测角仪。此外,测角仪采用垂直布局设置,样品可水平放置,处理样品时更安全。通过可靠且足够的原始数据集建模获,可获得膜的许多特性,例如膜厚度,其光学常数,界面,孔隙率,甚至成分。从这个意义上说,高级软件是高性能SE工具的条件。我们开发了用于系统设置的TFProbe 版软件,模拟,测量,分析,数据管理和2D / 3D图形演示,一体化。
光谱椭偏仪特征:
•基于Window软件,易于操作;
•*的光学设计,实现系统性能;
•高功率DUV-VIS-NIR光源,适用于宽带应用;
•基于阵列的探测器系统,确保快速测量;
•用户可以根据需要定义任意数量的图层;
•能够用于实时或在线厚度,折射率监测;
•系统配有全面的光学常数数据库;
•高级TFProbe 3.软件允许用户对每个胶片使用NK表,色散或有效介质近似(EMA);
•三种不同的用户级别控制:工程师模式,系统服务模式和简易用户模式;
•灵活的工程模式,适用于各种配方设置和光学模型测试;
•强大的一键式按钮解决方案,用于快速和常规测量;
•可按照用户偏好配置测量参数,操作简便;
•系统全自动校准和初始化;
•直接从样品信号获得精确的样品对齐接口,无需外部光学元件;
•精确的高度和倾斜程度调整;
•适用于许多不同类型的不同厚度的基材;
•各种选项,附件可用于特殊配置,如绘图阶段,波长扩展,焦点等;
•2D和3D输出图形以及用户数据管理界面;
光谱椭偏仪应用:
•半导体制造(PR,氧化物,氮化物 )
•液晶显示器(ITO,PR,Cell gap )
•法医学,生物学材料
•油墨,矿物学,颜料,调色剂
•制药,科研
•光学涂层,TiO2,SiO2,Ta2O5
•半导体化合物
•MEMS / MOEMS中的功能薄膜
•无定形,纳米和硅晶圆
•太阳能电池薄膜,CdTe,CdS,CIGS,AZO,CZTS
光谱椭偏仪技术参数:
型号 | SE200 (DUV-Vis) | SE300 (Vis) | SE450 (Vis-Nir) | SE500 (DUV-Vis-Nir) |
探测器类型 | CCD或CMOS阵列 | CCD或CMOS阵列 | CCD或CMOS和InGaAs阵列 | CCD或CMOS和InGaAs阵列 |
波长范围(nm) | 190至1100 | 370至1100 | 370-1700 | 190-1700 |
波长点 | 测量波长范围和波长数据点均在用户配方中自定义(数据点仅受分辨率限制) | |||
波长分辨率 | -3nm | -3nm | 至3nm | 至3nm |
数据采集时间 | 100毫秒到10秒,用户自定义 | |||
入射角范围 | 20至90度 |
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