相信大家对紫外臭氧清洗机已经不会感到陌生了吧，它具有安全、简易的操作特点，配置了安全传感器将避免臭氧环境污染和紫外线对操作者的暴露；并拥有良好的简易人机交互控制界面，不需要任何特殊的培训即可使用。随着我国工业现代化的发展，光清洗和光改质技术还将逐步应用于金属、塑料、橡胶等工业生产领域。
紫外臭氧表面清洗应用范围较广，在材料研究和器件制造等很多领域都有应用。可以用于硅片和塑料包装的表面清洗；用于在MOCVD和ALD工艺之前对III-V复合半导体晶圆片(如GaAs和InP)进行表面清洗；用于玻璃、PDMS、PMMA、COC、COP等基材的直接清洗；适用于各类材质表面的有机污染物清洗。
虽然表面清洗和制程方法有多种选择，但紫外臭氧清洗显示出优于其他方法的几个优点。而传统清洗方式分别为干法清洗和湿法清洗两种方式：
1、与干法清洗对比，基板充电损伤小。在等离子体处理中，离子轰击引起的充电损伤是一个严重的挑战。它会导致器件的电气特性退化。紫外臭氧处理提供表面处理使用氧自由基没有等离子体放电，它是等离子体蚀刻的一种经济有效的替代方法，因为它不需要任何特殊的真空室、气体或特殊设备。
2、与湿法清洗对比，没有有害的废水。湿式清洗需要处理化学废水，与湿法清洗相比，紫外UV臭氧处理是一个干燥的过程。而紫外臭氧清洗机内会配备臭氧清除装置，废气臭氧在系统内分解，不会造成清洁室内的臭氧含量过高从而产生危害。它也可配置成连续加载的清洗线，并可与DI水冲洗系统耦合，清除表面的颗粒。
紫外臭氧清洗机常用于扫描探测显微镜的样品应用，能用于清洗原子力显微镜探针，扫描探针显微镜标准和表面上常规的油渍层和残留的无机材料，也能用来改变物体表面的疏水性，有助于部件和表面的化学改性，经过氧化和硬化处理的探针有利于在扫描过程中保持探针的几何形状，削尖的探针有利于提高侧向分辨率。
