用电子衍射技术研究调和漆膜钝化膜的结构和成分定强有力的工具被用于测定金属或合成表面极薄的钝化膜的结构和成分。

    钝化膜形成和破裂的动力学----电化学技术、微电流检测技术和光学（椭圆测量术）技术用于调和漆钝化膜生长和破裂速度的原位研究，以获得对钝化膜形成机理的深入了解。用放射性示踪元素确定钝化膜中新物质的进入----这些技术可以测定进入钝化膜的合金元素（如CR）或破坏性离子。钝化性缓蚀刘畅的钝化机理----传统类型的铬酸盐缓蚀剂和原子时代的缓蚀剂的缓蚀机理都进行了广泛的研究。

    用椭圆测量术研究钝性的破坏，用光学技术、随圆术光谱和传统椭圆测量术可以原位观察到氧离子在钝性破阶段进入钝化膜，这时点蚀初始发生阶段结束。其他进展，另一个引人注目的进展是把电子排布理论引入合金钝化和调和漆钝化膜成分的阴极还原研究中。对钝化膜的性质、形成和破裂给出更基本的阐释的新的理论上的概念已有非晶膜及其钝化与破坏、渗透理论和合金钝化、空位的形成与迁移、钝化动力学与破裂。