直流磁控溅射仪溅射方式是调动靶材内磁场，使金属离子轰击到样品表面的镀膜方式。目前只能支持金属靶材。已经测试过的靶材有金、银、铜、铬、镍、铝、以及部分合金(镍铁合金)。靶材正常是2mm，不带磁性的话 最多5mm，带磁性的不要超过2mm，否则会有干扰。以下是对一些特殊金属镀膜要求:

铜：正常颜色为蓝绿色，或灰色偏绿。

铝:镀铝推荐使用高真空分子泵。真空时间抽长一些，测试时间60s，电流500，真空度3-5pa，等电压上升到250以上时，可以调小电流，调小真空，白光镀不上，正常颜色为红色。

铬:靶材厚度 0. 5mm 左右

镍：靶材厚度2mm，5 建议真空度为2-3pa，建议电流为200-300ma，真空度不能太高   电流不要太大。

钛：真空度示数要低，功率要高，建议500ma，时间60.正常溅射为绿色，出现白色辉光时  电压正常，但是镀不上，需要注意。

常见问题；1、有电流，没电压，是短路。

                   2、电压直接到1000v，真空度过高，加大氩气量。

小型蒸镀仪是通过高温蒸发的方式镀膜。支持蒸镀金属和有机物。目前已测试的金属有金、银、铜、铬、镍、铝，有机物(石蜡)。蒸镀仪增加膜厚监测需要用到带有屏蔽温度的陶瓷坩埚(原因是高温会影响膜厚仪的测试结果)。以下是对一些特殊金属镀膜要求。

铝:镀铝需要用到陶瓷坩埚。是因为铝高温熔化时会渗透进钨舟，发生脆性相，钨舟容易断镍:熔点较高(1453°)，需要用镍丝缠绕钨棒进行蒸发。同样会渗透进钨棒内，使钨棒断

裂

铬:需要用到铬钨棒进行蒸发镀膜熔点较高(1850 左右°)