简介 ：

使用徕卡 EM RES102，使您的样品具备**水平的灵活性，具有轻薄、清洁、抛光、切割的坡度和结构。的离子束研磨系统结合了在一个单工作台面单元上制备TEM、SEM和LM样品的特点。

各种样品架可以进行多元化应用。除了高能量的离子铣工艺，徕卡EM RES102也可适于采用低离子能量处理非常柔软的样本。

高效并节约成本

    TEM，SEM和LM应用功能集于一体

    SEM样品制备**可达25mm样品直径

    TEM样品制备获得的薄区大，有效提高了TEM样品制备效率

    局域网功能方便远程操控

安全

离子源和样品运动马达驱动，程序化控制，因而可获得重复性制样结果.

保持样品原生态

LN2样品台使得温度敏感型样品可在优化条件下进行离子研磨

操作简便

n  内置应用参数库 

n  帮助文件帮助初学者以及对设备进行维护