是利用卤素红外灯做为热源，通过极快的升温速率，将晶圆或者材料快速的加热到300℃-1200℃，从而消除晶圆或者材料内部的一些缺陷，改善产品性能。

采用的微电脑控制系统，采用PID闭环控制温度，可以达到*的控温精度和温度均匀性，并且可配置真空腔体，也可根据用户工艺需求配置多路气体。

应用领域：

1.快速热处理(RTP)，快速退火(RTA)，快速热氧化(RTO)，快速热氮化(RTN);

2.离子注入/接触退火;

3.金属合金;

4.热氧化处理;

5.化合物合金(砷化镓、氮化物等);

6.多晶硅退火;

7.太阳能电池片退火;

8.高温退火;

9.高温扩散。

快速退火炉报价主要由真空腔室、加热室、进气系统、真空系统、温度控制系统、气冷系统、水冷系统等几部分组成。