桌面小型蒸镀仪
工艺控制：PC/PLC机制的自动控制、数据处理、工艺记忆储存；
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原位监控：石英晶振监测(QCM)，光学监测，残余气体分析，其他原位监测技术或控制；
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衬底固定：单衬底固定，客户化衬底固定方式；
- 衬底夹具：加热，冷却，偏置，旋转等；
- 保护样品：配有样品挡板，可手动或自动开/关挡板，达到及时遮挡样品效果；
不同真空度 不同镀膜时间镀铜样品图
原样品没有镀膜 
115A 100秒 机械泵
115A 100秒 分子泵抽12分钟 
115A 120秒 分子泵抽20分钟
真空度越高 越不易氧化 越接近金属本色
桌面小型蒸镀仪KT-Z1650CVD
控制方式 | 7寸人机界面 手动 自动模式切换控制 |
加热方式 | 数字式功率调整器 |
镀膜功能 | 0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序 |
功率 | ≤1200W |
输出电压电流 | 电压≤12V 电流≤120A |
真空度 | 机械泵 ≤5Pa（5分钟） 分子泵≤10^-3Pa |
挡板类型 | 电控 |
真空腔室 | 石英+不锈钢腔体φ160mm x 160mm |
样品台 | 可旋转φ62 （可安装φ50基底） |
样品台转速 | 8转/分钟 |
样品蒸发源调节距离 | 70-140mm |
蒸发温度调节 | ≤1800℃ |
支持蒸发坩埚类型 | 钨丝蓝 带坩埚钨丝蓝 钨舟 碳绳 |
预留真空接口 | KF25抽气口 KF16真空计接口 KF16放气口 6mm卡套进气口 |
可选配扩展 | 机械真空泵（可抽真空 5分钟＜5Pa） 数显真空计（测量范围大气压到0.1Pa） 分子泵机组（可抽真空20分钟≤5x10-3Pa） |
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