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CVD气相沉积炉

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简单介绍为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这处cvd称为等离子体增强化学气相沉积法（PECVD）可根据客户需求设计尺寸，能满足超大型工件化学气相沉积处理需求；

详情介绍

采用*的控制技术，能精密控制MTS的流量和压力，炉膛内沉积气流稳定，压力波动范围小；特殊结构沉积室，密封效果好，抗污能力强；多通道沉积气路，流场均匀，无沉积死角，沉积效果好；对沉积产生的高腐蚀性尾气、易燃易爆气体、固体粉尘及低熔点粘性产物能进行有效的处理；新设计防腐蚀真空机组，持续工作时间长，维修率极低。

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